用途・事例

イオンプレーティングは、宇宙開発技術の一環としてアメリカで開発された、母材の表面に金属の薄い膜を成形する方法です。いわゆる「めっき」の一種で、通称「プレート」ともよばれます。

めっきは、湿式めっきと乾式めっき(真空めっき)の2つに分けられます。湿式めっきは金属イオンの溶液に母材を浸すもので、乾式めっきは真空中で蒸着などにより金属の被膜を成形する方法です。イオンプレーティングは乾式めっきに分類されています。

イオンプレーティングでは、膜にしたい材料を真空中で蒸発(昇華)させ、発生した粒子をプラズマの中にくぐらせてプラスの電荷を付与します。母材にはマイナスの電荷を付与しているため、粒子は母材に引き寄せられて堆積していきます。

プラスの電荷を帯びたものが、マイナス電荷を帯びさせた対象物に引き付けられ、堆積して膜が形成される方法は蒸着方に似ていますが、プラズマを使用することにより、蒸着方よりも密着度の高い膜を成形できるのが特徴です。

松定プレシジョンではイオンプレーティングでプラズマを発生させるのに使用する電源や、母材にマイナスの電荷を付与するために使用する電源など、多数取り扱っています。

イオンプレーティング
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