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用途・事例

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表面処理の概要と電源の役割

イオンプレーティングとは イオンプレーティングは、航空宇宙、自動車、および精密工業分野で使用される特殊な物理気相成長法(PVD)の一種です。従来の「湿式めっき」とは異なり、真空環境下で行われる「乾式」プロセスであるため、高い純度と制御性を確保することができます。

プロセスの概要
真空チャンバー内でコーティング材料を蒸発または昇華させ、それをプラズマ領域に通過させます。これにより粒子がイオン化され、正電荷を帯びます。一方、基材側には専用のDC電源またはパルスDC電源を用いて高い負電位(ネガティブバイアス)を印加します。このバイアス電圧によって、イオン化した粒子が高運動エネルギーを持って基材へと加速・衝突します。

主なメリット
  • 優れた密着性:イオンが高エネルギーで衝突するため、皮膜と基材の間に強固な結合が形成されます。
  • 高い膜密度:加速された粒子が堆積することで、緻密で均一なコーティングが可能になります。
  • 耐久性の向上:高硬度かつ耐摩耗性に優れた皮膜の形成に最適です。
高周波電源を活用した表面処理・めっきプロセスの図解