用途・事例

真空プラズマ処理(低圧プラズマ処理)とは、真空状態で材料の表面に均一にプラズマを照射することで、材料を洗浄したり表面処理をする技術です。半導体や電子部品の製造や医療用途まで、幅広い分野で使われています。

プラズマ処理では、素材表面に付着している微細な有機物などを分解、気化することにより材料を洗浄します。また素材表面の分子結合を切断し、表面の組成を変化させる表面改質効果もあります。さらにプラズマにより、素材の表面に水酸基を加飾して親水性をもたせ、液体を弾きにくくする効果もあります。

真空プラズマ処理は、たとえばマイクロチップの製造において、パターン加工されたPDMS (ジメチルポリシロキサン)の表面の親水性を向上させ、パターンの接着性を改善するために使用されています。真空プラズマ処理では、真空装置内部の電極やフィラメントに高圧電流をかけてプラズマを発生させます。

松定プレシジョンでは電極やフィラメントを加熱するための高圧電源を多数取りそろえています。

真空プラズマ処理
関連ワード:
  • プラズマ
  • 半導体
  • 表面処理