0120-747-636
（掲載：, M.P.）
電子ビーム（E-Beam）蒸着は、電子ビーム物理気相成長法（EBPVD）としても知られ、基板上に材料の薄膜を成膜させる手法です。このプロセスでは、フィラメントから発生させた高エネルギー電子ビームを、真空中で蒸発源（ターゲット）に照射します。このとき発生する強烈な熱によって材料が蒸発し、その蒸気が基板上で凝縮することで、均一な薄膜が形成されます。本プロセスには高加速電圧が必要であり、用途や材料に応じて、通常は数kVから40kV以上の電圧が用いられます。
松定プレシジョンでは、電子ビームシステム向けに設計された幅広い電源ラインナップを提供しています。これには、ビーム加速用の高圧電源や、フィラメント加熱用の専用大電流電源などが含まれます。
