0120-747-636
（掲載：, M.P.）
物理気相成長法（PVD）は、半導体製造をはじめ、切削工具や金型などの分野で薄膜を形成するために用いられるプロセスです。PVDには、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、分子線エピタキシー、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、スパッタリングなど、さまざまな手法が含まれます。
松定プレシジョンでは、PVDをはじめとする各種蒸着装置向けの電源を製造・販売しております。
用途・事例
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物理気相成長法（PVD）は、半導体製造をはじめ、切削工具や金型などの分野で薄膜を形成するために用いられるプロセスです。PVDには、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、分子線エピタキシー、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、スパッタリングなど、さまざまな手法が含まれます。
松定プレシジョンでは、PVDをはじめとする各種蒸着装置向けの電源を製造・販売しております。
